台积电在2025年持续引领芯片制造技术革新，其2纳米（N2）制程迎来关键突破。通过与 英伟达 深度合作，台积电正在其先进的 2纳米 制程中引入一项名为**ILT（Inverse Lithography Technology，反向光刻技术）**的创新技术。这项技术有望显著提升芯片性能、降低功耗，并进一步巩固台积电在半导体行业的领先地位。